特性
• θx, θy 偏擺運動，Z向升降
• 閉環定位精度高
• 響應速度快
• 透光孔：80×80mm
典型應用
• 掃描顯微
• 激光合束對準與激光致盲
• 干涉/計量
• 空間擾動模擬系統
• 生物技術
• 掩模與晶片位置調整
超薄的設計適用于顯微應用
P51系列偏擺/傾斜、升降臺是專門為對準、納米聚焦、計量等應用設計的，臺體非常薄，厚度僅為20mm，非常易于集成到高精度顯微鏡中。
仿真分析
通過有限元FEA優化的鉸鏈用于導向機構偏轉臺。有限元分析技術用于設計運動方向上最高的剛度，并減少角度偏差。鉸鏈部分允許極高精度的運動，因為鉸鏈機構無間隙、無摩擦。
超高導向精度、分辨率高、閉環傳感精度高
P51系列壓電偏轉臺為θx,θy軸偏擺Z軸升降臺，偏轉行程為±1.1mrad，Z軸直線行程可達110μm。
P51偏轉臺臺體采用無回差柔性鉸鏈導向結構，采用有限元分析進行優化，具有超高的剛度以及導向精度。
可選擇內置精密傳感器進行全閉環位置反饋，確保其具有極佳的運動控制精度，直線運動分辨率可達到亞納米級、偏轉分辨率達亞微弧度、定位穩定時間為毫秒量級。
頻率負載曲線
技術參數
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型號 |
尾綴S-閉環 |
P51.ZT1S |
P51.ZT1K |
單位 |
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尾綴K-開環 |
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運動自由度 |
θx,θy,Z |
θx,θy,Z |
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運動和定位 |
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標稱直線行程范圍 |
80 |
80 |
µm±20% |
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最大直線行程范圍 |
110 |
110 |
µm±20% |
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|
標稱偏轉角度 |
±0.9 |
±0.9 |
mrad/軸±20% |
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|
最大偏轉角度 |
±1.1 |
±1.1 |
mrad/軸±20% |
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傳感器類型 |
SGS |
- |
|||
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Z向直線分辨率 |
7 |
4 |
nm |
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|
θx, θy偏擺分辨率 |
0.25 |
0.05 |
µrad |
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閉環線性度 |
0.1 |
- |
%F.S. |
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|
閉環重復定位精度 |
0.05 |
- |
%F.S. |
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機械性能 |
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推/拉力 |
120/15 |
120/15 |
N |
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|
Z向剛度 |
1.5 |
1.5 |
N/µm±20% |
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|
空載諧振頻率 |
0.23 |
0.23 |
kHz±20% |
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空載階躍時間 |
30 |
4.5 |
ms±20% |
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空載工作 |
10%行程 |
50 |
>50 |
Hz±20% |
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|
100%行程 |
15 |
>15 |
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承載能力 |
1 |
kg |
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|
驅動性能 |
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靜電容量 |
3.6 |
μF/軸±20% |
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|
其他 |
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工作溫度范圍 |
-20~80 |
°C |
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材質 |
鋼、鋁 |
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外形尺寸 |
150×150×20 |
mm |
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通光孔徑 |
80×80，4×R5 |
mm |
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重量 |
820 |
g±5% |
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|
出線長 |
1.5 |
m±10mm |
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|
傳感/電壓連接器 |
LEMO |
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注： 可定制超低溫版本及超高真空版本。 連接器可定制。
應用案例
激光合束
激光合束對準的裝置涉及激光合束對準技術領域、光電干擾技術領域及激光致盲干擾技術領域，系統目的是實現對目標的精密跟蹤與瞄準。激光發射系統是對激光束進行擴束、準直、聚焦的光學系統。為消除大氣抖動、湍流等因素對激光傳輸的影響，常采用自適應光學技術，通過實時修正可調二維擺鏡，提高激光合束對準精度保證激光束聚焦良好。
顯微成像
微位移驅動技術是精密測量與精密制造的關鍵技術之一。隨著微納制造技術的快速發展，需求納米級驅動控制技術的領域越來越多。六自由度納米工作臺已成為微小器件表面形貌測量的全場并行共焦顯微鏡關鍵部件，它的驅動技術及驅動系統可實現微動平臺的快速調整、高精度定位和微型化。
光束掃描
偏擺臺/鏡是現代光機系統的重要組成部分之一，主要應用在高精光機系統的掃描跟蹤、光路調制和抖振抑制等。壓電偏擺臺可實現快速光束掃描，在保證精度的同時，并能保證快速跟蹤。非常適合應用在新一代的空間光機系統，如激光通信平臺、空間望遠鏡和偵查相機等。
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