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【SSLCHINA 2015】楊學林:采用較大晶格失配引致應力控制技術在Si襯底生長高遷移率AlGaN/GaN異質結

放大字體  縮小字體 發布日期:2015-11-05 來源:中國半導體照明網作者:蘆麗瀏覽次數:1182
  11月3日上午,為期三天的第十二屆中國國際半導體照明論壇(SSLCHINA 2015)在深圳會展中心隆重舉行了開幕式。這是論壇告別深圳五年后,再次榮耀歸來。論壇緊扣時代發展脈搏與產業發展趨勢,以“互聯時代的LED+”為大會主題,探討產業發展大勢。
 
  論壇期間舉辦的各類同期活動更可謂是一場場思想碰撞的精神盛宴。
 
  3日下午,在論壇隆重召開之際,2015中國國際第三代半導體技術與應用高峰論壇在深圳會展中心五層玫瑰廳-1如期舉行,來自與第三代半導體相關的科研院所、研發機構、大專院校、龍頭企業等代表也如約而至,共同探討第三代半導體發展、技術前沿與應用趨勢,為搶占國際半導體領域戰略制高點獻計獻策。
 
  北京大學物理學院教授、北京大學寬禁帶半導體聯合研究中心副主任沈波;香港科技大學教授陳敬教授共同主次了本次論壇。
 
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北京大學物理學院楊學林
 
  北京大學物理學院楊學林做了“采用較大晶格失配引致應力控制技術在Si襯底生長高遷移率AlGaN/GaN異質結”主題報告。
 
  他表示,在目前的工作中,在低鋁含量AlGaN層上采用較大晶格失配引致應力控制技術在4英寸Si襯底上生長高質量GaN層。應用該技術可實現高遷移率AlGaN/GaN異質結,在單電荷密度為8.4×1012 cm-2下電子遷移率為2040cm2 /(V·s)。研究結果為低成本高性能的硅基氮化鎵功率器件的制造提供很大的潛在可能性。

 
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