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我國發展化合物半導體產業正當時

放大字體  縮小字體 發布日期:2016-09-12 來源:中國電子報瀏覽次數:361
   化合物半導體是區別于硅(Si)和鍺(Ge)等傳統單質的一類半導體材料,主要包括砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP)、氮化鎵(GaN)、碳化硅(SiC)、氧化鋅(ZnO)等。相對于硅材料,化合物半導體性能更加優異,制作出的器件相對于硅器件具有更優異的光電性能、高速、高頻、大功率、耐高溫和高輻射等特征。
 
  當前,全球半導體產業正處于深度變革,化合物半導體成為產業發展新的關注點,我國應加緊產業布局,搶占發展的主動權。
 
  化合物半導體成為集成電路產業新關注點
 
  集成電路產業深刻變革驅動化合物半導體市場發展。一是集成電路產業遵循“摩爾定律”演進趨緩,以新材料、新結構以及新工藝為特征的“超越摩爾定律”成為產業新的發展重心。二是曾經驅動集成電路市場高速增長的PC和智能手機市場疲軟,未來5G和物聯網將成為新風口。三是全球能源和環境危機突出,能源利用趨向低功耗和精細管理。化合物半導體作為新材料和新器件,在微波通信器件、光電子器件和功率器件中有著同類硅器件所不具備的優異性能,將在以上應用領域得到廣泛應用。
 
  國內外圍繞化合物半導體的并購案頻發。近年來,國際巨頭企業紛紛圍繞化合物半導體展開并購,2014年8月,功率半導體領導者德國英飛凌公司以30億美元收購美國國際整流器公司(IR),取得了其硅基GaN功率半導體制造技術;同年9月,設計和制造GaAs和GaN射頻芯片的RFMD公司和TriQuint公司宣布合并為新的RF解決方案公司Qorvo。國內企業和資本也圍繞化合物半導體產業展開收購。
 
  國家“大基金”投資三安光電布局化合物半導體。2015年6月,國家集成電路產業投資基金(“大基金”)投資48.39億元入股三安光電,推動三安光電下屬三安集成電路公司圍繞GaAs和GaN代工制造,開展境內外并購、新技術研發、新建生產線等業務。同時,國家開發銀行也以最優惠利率向三安提供200億元貸款。
 
  2016年2月,泉州市政府、“大基金”、華芯投資、三安集團等在晉江市合資成立安芯基金,基金目標規模500億元,首期出資規模75.1億元,將主要投向III-V族化合物集成電路產業。
 
  全球化合物半導體產業市場空間廣闊
 
  GaAs和GaN的微波通信器件、GaN和SiC的電力電子器件由于下游應用的驅動,技術和產業發展十分迅速,市場空間廣闊。
 
  GaAs器件:GaAs微波通信器件在移動終端的無線PA和射頻開關器領域占主導地位,未來高集成度和低成本制造將成為產業發展趨勢,在無線通信、消費電子、汽車電子、物聯網等應用領域將得到廣泛應用。同時,GaAs基材料有望在集成電路10nm以下制程以及未來的光互連芯片中得到應用。
 
  2015年全球GaAs微波通信器件市場規模達到86億美元,超過60%的市場份額集中于Skyworks、Qorvo、Broadcom/Avago三大巨頭,2020年,市場規模預計將突破130億美元。GaAs產業代工制造模式逐漸興起,我國臺灣穩懋、宏捷、環宇是主要的代工企業。
 
  GaN器件:基于GaN的藍綠光LED產業發展成熟,微波通信器件和電力電子器件產品尚未在民用領域廣泛應用。藍寶石基GaN技術最成熟,Si基GaN可實現高集成性和低成本,目前Si基GaN技術以6英寸為主流。
 
  全球GaN微波通信器件和電力電子器件的產值還很低,只有幾億美元,隨著技術水平的進步,2020年產值有望達到15億美元。英飛凌、富士、東芝、松下等大企業紛紛投巨資進軍GaN領域。新進入的小企業也有很多,如加拿大的GaN Systems、美國的EPC等公司都已經量產GaN產品。未來在新能源、智能電網、信息通信設備和消費電子領域將得到廣泛應用。
 
  SiC器件:SiC單晶襯底制造以4英寸為主流,并正向6英寸過渡,同時8英寸也已經問世。產品主要以電力電子器件為主,SiC-SBD(肖特基二極管)技術成熟,已開始在光伏發電等領域替代Si器件,SiC-MOSFET性能突出,可大幅降低模組中電容電感的用量,降低功率模組成本。SiC-IGBT未來將憑借其優異的性能在大型輪船引擎、智能電網、高鐵和風力發電等大功率領域得到應用。
 
  2015年,全球SiC電力電子器件市場規模達到近1.5億美元,預計2020年將達到10億美元。SiC襯底的主要供應商有科銳、Rohm/SiCrystal和II-VI等,其中科銳公司占據了SiC襯底90%的供應量。SiC器件市場,科銳和英飛凌/IR兩家巨頭占據了70%的市場份額。SiC電力電子器件在低電壓產品領域將面對GaN器件的激烈競爭,在PFC、UPS、消費電子和電動汽車等900V以下的應用領域,低成本的GaN器件將占據主要市場,SiC器件未來主要面向1200V以上的市場。
  《中國制造2025》技術路線圖中化合物半導體材料相關發展目標
 
  我國產業發展面臨重大機遇
 
  《中國制造2025》為產業發展提供政策支持。2015年5月,國務院發布《中國制造2025》。新材料在《〈中國制造2025〉重點領域技術路線圖》中是十大重點領域之一,其中化合物半導體中的第三代半導體被納入關鍵戰略材料發展重點。
 
  集成電路高速發展為產業發展提供技術支撐。我國集成電路正處于大發展時期,可為化合物半導體產業提供先進技術支撐。如GaAs或GaN單片微波集成電路的設計和仿真技術、化合物半導體制造工藝和生產線的建設技術、先進封裝和測試技術、光刻機和CVD等通用設備的制造技術、以及大尺寸硅單晶襯底和光刻膠等通用配套材料的制備技術。
 
  重點應用領域和國產化替代需求為產業發展提供巨大市場。我國的光伏、風能、4G/5G移動通信、高速鐵路、電動汽車、智能電網、大數據/云計算中心、半導體照明等產業發展如火如荼,是化合物半導體大顯身手的應用領域,如4G/5G通信基站和終端使用的GaAs或GaN微波射頻器件和模塊,高速鐵路使用的SiC基牽引傳動系統,光伏電站、風能電場和電動汽車使用的GaN或SiC電能逆變器或轉換器,智能電網使用的SiC大功率開關器件,工業控制使用的GaN或SiC基電機馬達變頻驅動器,大數據/云計算中心使用的GaN或SiC基高效供電電源,半導體照明中使用的GaN基高亮度LED等。
 
  (作者朱邵歆,供職于賽迪智庫集成電路產業研究所)
 
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