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西安電子科技大學(xué)趙子越博士:基于氮化鈦源極擴展技術(shù)的常關(guān)型氟離子處理的AlGaN/GaN高電子遷移率晶體管

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2018-11-02 來源:中國半導(dǎo)體照明網(wǎng)作者:JACK瀏覽次數(shù):823
  第三代半導(dǎo)體氮化鎵微波器件具備高頻、高效、大功率等特點,在新一代移動通信中應(yīng)用潛力巨大。這一特定領(lǐng)域的突破標(biāo)志著寬禁帶半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁向新的高地。誰掌握著技術(shù)的高地,誰就擁有更多的話語權(quán)。
 
  2018年10月23-25日,第十五屆中國國際半導(dǎo)體照明論壇(SSLCHINA 2018)暨2018國際第三代半導(dǎo)體論壇(IFWS 2018)在深圳會展中心舉行。其中,24日上午由中國電子科技集團第十三研究所、蘇州能訊高能半導(dǎo)體有限公司支持協(xié)辦的“第三代半導(dǎo)體微波射頻技術(shù)分會”在河北半導(dǎo)體研究所副所長蔡樹軍和蘇州能訊高能半導(dǎo)體有限公司董事長張乃千共同主持下成功召開。
楊凌的學(xué)生
  “第三代半導(dǎo)體微波射頻技術(shù)分會”作為論壇重要技術(shù)分會之一,會上,來自西安電子科技大學(xué)趙子越博士分享了《基于氮化鈦源極擴展技術(shù)的常關(guān)型氟離子處理的AlGaN/GaN高電子遷移率晶體管(fT/fmax=61GHz/130GHz)》主題報告。
 
  他介紹說,在SiC襯底上實現(xiàn)了高性能的柵長為0.1um的常關(guān)型薄勢壘AlGaN/GaN高電子遷移率晶體管器件,采用氟離子注入技術(shù)并結(jié)合氮化鈦源極擴展技術(shù)實現(xiàn)了高性能的常關(guān)型器件,其閾值電壓達到0.6V,飽和電流達到845mA/mm@Vgs=3V <mailto:845mA/mm@Vgs=3V>,峰值跨導(dǎo)達到412mS/mm,電流截止頻率達到61GHz,最大震蕩頻率達到130GHz。
 
  實驗結(jié)果表明氮化鈦源極擴展技術(shù)能夠有效的提升常關(guān)型AlGaN/GaN高電子遷移率晶體管器件的跨導(dǎo)峰值和頻率特性。【根據(jù)會議資料整理,如有出入敬請諒解!】
 
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