紐約普萊恩維尤 – 2018 年 11 月 8 日 – Veeco Instruments Inc. (Nasdaq: VECO) 與 ALLOS Semiconductors GmbH 今日宣布取得又一階段的合作成果，雙方共同努力，致力于為 microLED 生產應用提供業內領先的硅基氮化鎵外延片產品技術。兩家公司最近合作的宗旨是，在為全球范圍內多家杰出的消費類電子產品公司生產外延片的同時，展示 ALLOS 200 mm 硅基氮化鎵外延片產品技術在 Veeco Propel? MOCVD 反應器上的可復制性。

 

“要將 microLED 技術轉化為生產，僅依據單項指標展示主導價值是不夠的。我們必須確保每種外延片的整套規格都具有出色的可重復性和收益，”Veeco Compound Semiconductor 業務部門高級副總裁兼總經理 Peo Hansson 博士表示。“此次成功聯合再次肯定 Veeco 的優秀 MOCVD 專業知識與 ALLOS 硅基氮化鎵外延片產品技術強強結合，能夠為客戶提供經驗證的、可靠的創新方案，加速推進 microLED 應用。”

 

作為標準，傳統 LED 技術通過分類和分級實現波長一致性。但鑒于 microLED 尺寸小、數量多而無法分類和分級，因此，外延沉積的一致性變得更為重要。要使大批量生產 microLED 顯示器的承諾變成現實，最重要的成功要素在于實現極佳的發射波長一致性，這樣就不需要進行單獨的 microLED 芯片測試和分選。根據業內目標要求，外延片分級應介于 +/-1 nm（下限）和 +/-4 nm（上限）之間，取決于應用和傳質方法。通過合作項目，Veeco 和 ALLOS 通過標準偏差僅為 0.85 nm 的晶片進一步改善至關重要的波長一致性，這在生產系統方面屬于行業首例。

 

“Veeco 和 ALLOS 對晶片之間的可復制性進行了驗證，所有晶片的平均波長標準偏差為 1.21 nm，且峰值波長介于 +/-0.5 nm 范圍內。由此，我們朝著 +/-1 nm 外延片分級的目標又邁進一大步，”ALLOS 首席執行官 Burkhard Slischka 表示。“我們的技術已經可以在直徑 200 mm 的晶片上使用，這樣就能使用低成本、高收益的硅系列進行 microLED 芯片生產。此外，我們對于 300 mm 晶片應用已有清晰的發展藍圖。”

 

作為下一個重大技術轉變主題，microLED備受顯示器技術創新者的關注。據調研公司 Yole Développement，到 2025 年，市售 microLED 顯示器數量可能達到 3.3 億臺。邊長小于 100 ?m 的 microLED 技術被視作開發功耗更低的旗艦顯示器的重要驅動因素，相關技術承諾助長了這一樂觀情緒。但是，材料成本高、收益低以及 microLED 傳質技術產量一直阻礙著此類顯示器的開發。此次技術聯合有效地解決了這些挑戰，Veeco 和 ALLOS 將繼續與客戶合作，旨在進一步改善硅基氮化鎵外延片和 microLED 傳質技術。

 

2018 年 11 月 12 日，兩家公司將攜手在日本金澤市召開的國際氮化物半導體工作研討會 (IWN) 上詳細展示他們的突破成就。

 

 

Veeco (NASDAQ: VECO) 是領先的創新半導體工藝設備制造商。在固態照明用 LED 和顯示器用 LED 生產，以及先進半導體器件制造方面，我們經驗證的 MOCVD、光刻、激光退火、離子束和單晶片蝕刻以及清潔技術發揮著不可或缺的作用。由于設備能夠最大程度地提高性能、收益和擁有成本，Veeco 在所有這些服務市場中都占據技術領導地位。有關 Veeco 創新設備和服務的更多信息，請訪問 www.veeco.com。

 

 

ALLOS 是一家知識產權授權和技術工程公司，致力于幫助全球半導體行業的客戶掌握硅基氮化鎵技術并發揮其優勢。ALLOS 提供專有技術和專利許可，并針對客戶 MOCVD 反應器提供技術轉讓。此外，ALLOS 致力于為客戶提供特定解決方案和咨詢服務，以應對下一代硅基氮化鎵開發挑戰。