掩膜版（Photomask）又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，功能類似于傳統(tǒng)照相機(jī)的“底片”，是承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息的載體。掩膜版用于下游電子元器件制造業(yè)批量生產(chǎn)，是下游行業(yè)生產(chǎn)流程銜接的關(guān)鍵部分，更是下游產(chǎn)品精度和質(zhì)量的決定因素之一。

電子元器件發(fā)展 拉動市場擴(kuò)增

隨著電子信息技術(shù)的日新月異，5G技術(shù)和人工智能帶動下游終端電子產(chǎn)品的更新?lián)Q代速度越來越快，以平板電視、筆記本電腦、數(shù)碼相機(jī)、智能手機(jī)等產(chǎn)品為主的消費(fèi)類電子產(chǎn)品產(chǎn)銷量持續(xù)增長，為平板顯示、半導(dǎo)體芯片、觸控、電路板等電子元器件相關(guān)行業(yè)帶來巨大的市場空間，間接帶動了掩膜版行業(yè)的發(fā)展。

在掩膜版下游應(yīng)用中，IC用掩膜版占比最高為60％，其次是LCD用掩膜版占比為23％，其次是OLED、PCB等應(yīng)用領(lǐng)域。

同時，電子元器件制造商為了滿足其下游產(chǎn)品的多功能、小型化、便攜性等需求，不斷加大技術(shù)投入，開發(fā)新材料、新技術(shù)以及研發(fā)新產(chǎn)品，這也為掩膜版行業(yè)的發(fā)展帶來了更多市場需求。

以平板顯示市場為例，全球平板顯示產(chǎn)業(yè)保持平穩(wěn)增長，業(yè)態(tài)發(fā)展呈現(xiàn)尺寸大型化、競爭白熱化、轉(zhuǎn)移加速化、產(chǎn)品定制化等特點(diǎn)，受益于電視平均尺寸增加，大屏手機(jī)、車載顯示和公共顯示等需求的拉動，根據(jù)IHS預(yù)測，2016年－2025年全球新型顯示面板需求面積的CAGR預(yù)計(jì)將達(dá)4％，到2025年增長至2．66億平方米。

國內(nèi)掩膜版發(fā)展落后 需求持續(xù)增長

全球掩膜版市場規(guī)模保持增長，而我國長期依賴進(jìn)口。由于國內(nèi)掩膜版行業(yè)發(fā)展落后，供應(yīng)未及時跟進(jìn)，因此國內(nèi)掩膜版供需缺口逐年擴(kuò)大。2011年我國掩膜版需求由5．09萬平方米增加至2016年7．98萬平方米，產(chǎn)量則由0．87萬平方米增加至1．69萬平方米，供給缺口由4．22萬平方米擴(kuò)大至6．29萬平方米。

在平板顯示領(lǐng)域，據(jù)IHS數(shù)據(jù)，2018年全球平板顯示掩膜版需求為58億元，其中中國大陸平板顯示掩膜版需求為23億元，占全球市場需求比率為40％。隨著中國大陸面板廠商不斷投資新的平板顯示產(chǎn)線，預(yù)計(jì)2020年中國平板顯示產(chǎn)能的全球占有率將達(dá)到52％，中國大陸平板顯示掩膜版市場規(guī)模將呈現(xiàn)持續(xù)快速增長的趨勢。

從芯片銷售額看，根據(jù)WSTS發(fā)布的數(shù)據(jù)，2016年中國半導(dǎo)體消費(fèi)額1075億美元，占全球總量的32％，已成為全球最大的半導(dǎo)體消費(fèi)市場。隨著國內(nèi)制造業(yè)環(huán)節(jié)快速發(fā)展，以及國內(nèi)巨大的消費(fèi)市場和勞動力人口優(yōu)勢，全球掩膜版下游應(yīng)用的主要市場將加快向國內(nèi)轉(zhuǎn)移，世界市場份額不斷向中國集中。

行業(yè)技術(shù)壁壘高 國產(chǎn)替代還有一定距離

在TFT領(lǐng)域，我國TFT掩膜版需求持續(xù)增長，但是國內(nèi)能夠配套TFT用掩膜版的企業(yè)只有路維光電和清溢光電，主要針對G8．5以下掩膜版；AMOLED、Gray－tone、Half－tone等掩膜版均依賴進(jìn)口。半導(dǎo)體領(lǐng)域，英特爾、三星、臺積電三家全球最先進(jìn)的晶元制造廠，其所用的掩膜版絕大部分由自己的專業(yè)工廠生產(chǎn)；其它掩膜版主要被美國Photronics、日本DNP以及日本Toppan三家公司所壟斷。

我國掩膜版制造主要集中在少數(shù)企業(yè)和部分科研院所。面板領(lǐng)域，國內(nèi)能夠配套TFT（薄膜晶體管）用掩膜版的企業(yè)只有路維光電和清溢光電，主要針對8．5代以下掩膜版；半導(dǎo)體領(lǐng)域，少數(shù)企業(yè)如無錫華潤、無錫中微等，只能制造0．13μm以上Stepper Mask；對于HTM（半透膜）、GTM（灰階掩模板）、PSM（先進(jìn)相移掩模）等掩模版，主要依賴進(jìn)口。

我國掩膜版領(lǐng)域由于起步仍然相對較晚，在高端掩膜版產(chǎn)品的技術(shù)水平和綜合產(chǎn)能上與國際廠商仍存在一定差距。由于掩膜版行業(yè)的高進(jìn)入門檻，目前市場主要參與者為境內(nèi)外知名企業(yè)，但未來競爭格局將會漸漸清晰。