近日,第十七屆中國國際半導體照明論壇(SSLCHINA 2020)暨2020國際第三代半導體論壇(IFWS 2020)在深圳會展中心舉行。本屆論壇由國家半導體照明工程研發及產業聯盟(CSA)、第三代半導體產業技術創新戰略聯盟(CASA)主辦。南方科技大學微電子學院與北京麥肯橋新材料生產力促進中心有限公司共同承辦。
期間,由有研稀土新材料股份有限公司和江蘇博睿光電有限公司共同協辦的光健康與光品質分會之光品質專場上,鄭州大學建筑學院李卓分享了博物館高敏感性藝術品照明光源的評估方法。光源中的光譜能量輻射是造成高光敏感性藝術品(HPAs)顏色受損的關鍵。但不同光源的光譜功率分布不同,不同材料對各個波段光譜能量的吸收反射特性各異,導致在相同照射強度下對展品造成的輻射損傷程度有很大差別。
針對如何評價不同光源在HPAs照明中的適用性問題開展研究,以可見光范圍內10種不同波段窄帶光源作為實驗光源(峰值波長分別為447nm、475nm、500nm、519nm、541nm、595nm、624nm、635nm、658nm、733nm),以清代中期(DC 1750~DC 1850)的紙絹基材和7種典型有機顏料作為被照樣本,在恒溫恒濕條件下開展長周期照射實驗,每種窄帶光源在被照樣本表面的照射強度保持一致。實驗共持續90天,每天照射16小時,隨著照射時間延長被照樣本的總曝光量隨之累加,每15天(照射240小時)作為一個測試周期進行樣本的CIE Lab色坐標測量,并計算各個周期相對于初始狀態的色差值。通過分析被照材料隨曝光量的色差變化數據得到了光譜構成對HPAs色彩的損傷規律,并建立了能夠描述上述規律的數學模型,在此基礎上提出了用于HPAs照明光源的色彩損傷度評價公式,最后通過實例論述光源損傷度的評價方法。
根據具體的實驗過程、驗證與數據,報告顯示,由實驗數據分析可知,兩個LED光源均比鹵素燈對畫作造成的色彩損傷大,其中 LED2(4000K)對于畫作的色彩損傷度更大,與色彩損傷度評價公式的結論一致。實驗結論表明該評估方法可以有效預測不同LED光源對于HPAs的色彩損傷,可以將該評估方法用于光源篩選。
李卓主教課程為建筑物理、照明技術與照明藝術、博物館設計、綠色建筑設計等,主要研究內容為博物館照明中的文物保護、顏色質量、視覺舒適問題研究,主持國家科技支撐計劃子課題1項,河南省高校重點科研項目1項,鄭州大學本科教學改革研究與實踐項目1項,近三年在
等期刊以第一作者發表論文4篇。
(內容根據現場資料整理,如有出入敬請諒解)