4月6日,中微公司董事長、總經理尹志堯透露,公司研發的等離子刻蝕設備已經進入客戶的5nm生產線。
尹志堯表示,公司的等離子體刻蝕設備已應用在國際一線客戶從65納米到14納米、7納米和5納米及其他先進的集成電路加工制造生產線和先進封裝生產線。
其中,公司開發的12英寸高端刻蝕設備已運用在國際知名客戶最先進的生產線上并用于5納米、5納米以下器件中若干關鍵步驟的加工。
此外,公司MOCVD設備在行業領先客戶的生產線上大規模投入量產。
中微公司也在互動平臺上證實了這一說法,稱公司刻蝕設備確實進入了5納米生產線。
中微公司瞄準世界科技前沿,主要從事高端半導體設備及泛半導體設備的研發、生產和銷售。
公司的刻蝕設備已應用于全球先進的7納米和5納米及其他先進的集成電路加工制造生產線及先進封裝生產線。
中微公司作為設備公司,向客戶提供可加工先進器件的設備,協助、配合客戶實現先進器件的開發和生產。
據介紹,等離子體刻蝕機是芯片制造中的一種關鍵設備,用來在芯片上進行微觀雕刻,每個線條和深孔的加工精度都是頭發絲直徑的幾千分之一到上萬分之一,精度控制要求非常高。