據悉，Primo AD-RIE 200 是中微公司自主研發的新一代 8 英寸甚高頻去耦合反應離子（CCP）刻蝕設備?；谝驯粯I界廣泛認可的 12 英寸 CCP 刻蝕設備的成熟工藝與特性，Primo AD-RIE 200 在技術創新和生產效率方面都有了進一步提升，能夠滿足不同客戶 8 英寸晶圓的加工需求。

 

為提高生產效率，Primo AD-RIE 200 刻蝕設備可靈活配置多達三個雙反應臺反應腔（即六個反應臺）。此外，Primo AD-RIE 200 提供了可升級至 12 英寸刻蝕設備系統的靈活解決方案，以滿足客戶生產線未來可能擴產的需求。