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武漢大學周圣軍教授:高效率氮化物藍光/綠光/紫外LED外延生長與芯片制造技術

放大字體  縮小字體 發布日期:2021-12-13 來源:中國半導體照明網瀏覽次數:590
近日,由第三代半導體產業技術創新戰略聯盟(CASA)、國家半導體照明工程研發及產業聯盟(CSA)聯合主辦,北京麥肯橋新材料生產力促進中心有限公司與半導體產業網共同承辦的第七屆國際第三代半導體論壇暨第十八屆中國國際半導體照明論壇(IFWS & SSLCHINA 2021)在深圳會展中心舉行。
周圣君2
期間,“SSLCHINA 2021:半導體照明芯片、封裝、模組及可靠性”分論壇由廣東中民工業技術創新研究院有限公司、旭宇光電(深圳)股份有限公司、有研稀土新材料股份有限公司、江蘇博睿光電有限公司聯合協辦支持。會上,武漢大學動力與機械學院周圣軍教授現場分享了“高效率氮化物藍光/綠光/紫外LED外延生長與芯片制造技術”主題報告。
周圣軍
GaN基LED具有發光波長可調、發光效率高、節能、環保、壽命長、體積小等優點,在汽車照明、高分辨率全彩顯示、可見光通信、光遺傳、通用照明等領域具有重要的應用價值。
 
報告介紹了,利用MOCVD原位生長技術、激光加工技術、ICP刻蝕技術、TMAH濕法腐蝕技術在LED芯片的不同位置引入微納光學結構,提升LED芯片的光提取效率。汽車大燈和特種照明應用領域需要大電流驅動LED芯片,針對大電流驅動條件下,電流聚集導致LED芯片電注入難的問題,設計與制造了一種三維倒裝結構LED芯片,通過陣列分布的三維通孔電極,縮短電流橫向擴展長度,使電流分布更加均勻,解決了電流聚集問題,使藍光LED芯片的電注入效率達到99%,光輸出飽和電流密度提升了一倍。
 
在綠光LED外延結構中引入InGaN/GaN超晶格,通過調節InGaN/GaN超晶格生長溫度和周期對V-pits的密度和尺寸進行調控,利用V-pits屏蔽位錯提升綠光LED芯片的外量子效率。發展濺射AlN成核層/圖形襯底模板技術,不僅降低了氮化物材料位錯密度,而且提升了紫外LED芯片的光提取效率,為發展高效率紫外LED提供技術支撐。

(內容根據現場資料整理,如有出入敬請諒解)

 
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