美國NAURA-Akrion首席技術官Ismail I. KASHKOUSH:下一代半導體器件外延制備前期的襯底清理技術
美國Transphorm高級副總裁YifengWU:擊穿電壓超過650V同時結溫超過150°C的氮化鎵功率器件
德國ALLOS Semiconductors首席技術官Atsushi NISHIKAWA分享了《通過高品質硅基氮化鎵外延以實現無碳摻雜的高隔離性和高動態表...
加拿大多倫多大學教授吳偉東分享了《用于增強型GaN功率晶體管的智能門極驅動芯片》研究報告。吳偉東,多倫多大學電子與計算機...
日本福井大學教授Masaaki KUZUHARA:基于半絕緣氮化鎵襯底生長的高擊穿電壓氮化鎵HEMT器件
英諾賽科研發中心副總裁David C. ZHOU:200mm 40V-650V E型硅基氮化鎵材料功率器件技術:從器件、封裝、到系統
2019年11月25-27日,第十六屆中國國際半導體照明論壇(SSLCHINA 2019)暨2019國際第三代半導體論壇(IFWS 2019)在深圳會展中...
中國科學技術大學孫海定和龍世兵課題組和中國科學院寧波材料所郭煒和葉繼春課題組在高襯底斜切角(4度)藍寶石襯底上成功外延...